Физик парны чүпләү (Физик парны чүпләү, ПВД) технологиясе вакуум шартларында физик ысуллар куллануны аңлата, материаль чыганак (каты яки сыек) газ атомнарына яки молекулаларына парлашырга, яки өлешчә ионга ионлашырга һәм түбән аша үтәргә. - басым газы (яки плазма). Процесс, субстрат өслегендә махсус функцияле нечкә пленка урнаштыру технологиясе, һәм физик парларны чүпләү төп өслекне эшкәртү технологияләренең берсе. ПВД (физик пар парламенты) каплау технологиясе нигездә өч категориягә бүленә: вакуум парга әйләнү, вакуум спуттеринг каплау һәм вакуум ион каплау.
Безнең продуктлар, нигездә, җылылык парга әйләнүдә һәм бөтерелгән каплауда кулланыла. Пар чүпләүдә кулланылган продуктларга вольфрам чыбыклары, вольфрам көймәләре, молибден көймәләре, һәм тантал көймәләре электрон нур каплауда кулланылган продуктлар - катод вольфрам чыбыклары, бакыр кристалл, вольфрам кристалл, һәм молибден эшкәртү өлешләре титанны үз эченә ала. максатлар, хром максатлары, титан-алюминий максатлары.
