Физик парны чүпләү (Физик парны чүпләү, ПВД) технологиясе вакуум шартларында физик ысулларны материаль чыганак (каты яки сыек) газлы атомнарга яки молекулаларга парлау, яки өлешчә ионлаштыру һәм аз басымлы газ (яки плазма) аша үткәрүне аңлата. Процесс, субстрат өслегендә махсус функцияле нечкә пленка урнаштыру технологиясе, һәм физик парларны чүпләү төп өслекне эшкәртү технологияләренең берсе. ПВД (физик пар парламенты) каплау технологиясе нигездә өч категориягә бүленә: вакуум парга әйләнү, вакуум спуттеринг каплау һәм вакуум ион каплау.
Безнең продуктлар, нигездә, җылылык парга әйләнүдә һәм бөтерелгән каплауда кулланыла. Пар чүпләүдә кулланылган продуктларга вольфрам чыбыклары, вольфрам көймәләре, молибден көймәләре, һәм тантал көймәләре электрон нур каплауда кулланылган продуктлар катод вольфрам чыбыклары, бакыр кристалл, вольфрам кристалл, һәм молибден эшкәртү өлешләре титан мишеньлары, титан максатлары, хром.
